纳米压印技术是什么（优缺点及生活应用）

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光刻机的现有局面迎来大洗牌？扬言造芯2nm的纳米压印开始颠覆光刻机领域了。

先有华为新机先锋上架，后有佳能的新一代纳米压印光刻机宣布开售。经过20年的技术摸索，这次迎来了更新的突破。一时间引起了众说纷纭。

在芯片制造领域内，我们常听到的、也是目前应用最多的光学光刻（EUV、DUV）相比，“下一代光刻机”纳米压印，什么来头？

据佳能官网介绍，这款FPA-1200NZ2C光刻机，可以通过纳米压印技术，实现14nm线宽，即对标 5nm 制程的芯片。并且，随着掩模技术的进一步改进，有望突破最小线宽为10nm的电路图案，相当于 2nm 制程。

直到去年12月，有消息传出佳能想给中国提供光刻机，宣称可以媲美EUV。那时正是佳能放出成功实现5nm制程这一消息的时间点。

才1年不到，佳能宣布即日起(10月13日)，FPA-1200NZ2C全面接收订单，也是实现了 5nm 规模化量产的信号。

佳能消息发出后，13日纳米压印概念股开盘随即拉升。汇创达曾涨超9%，美迪凯、晶方科技、利和兴等纷纷跟涨。

在EUV的盛行的局面下，来自东方的日本半导体，再次打出了纳米压印这张牌，其被日本半导体行业视作与EUV光刻机竞争大小王的不二之选，承载的使命之重，不言而喻。

纳米压印技术（ Nanoimprint lithography ，简称“NIL”），此概念由华裔科学家 周郁 教授在1995年首先提出。2003年，作为微纳加工技术，被纳入2003年国际半导体技术蓝图。

2003年国际半导体技术蓝图

2009年，美国从事纳米压印技术开发的Molecular Imprints公司曾计划使用NIL进行32nm芯片的制造最终失败；2014年，佳能收购了该公司，更名为Canon Nanotechnologies，宣告正式进入NIL市场。

芯片行业技术在不断更迭的同时，纳米压印一直都有量产存储芯片的新闻。蛰伏多年之后，新款的FPA-1200NZ2C开卖了。

操作中的FPA-1200NZ2C

尽管同是称为光刻技术，但NIL与传统光刻的实施方法毫不沾边。NIL的技术原理很好理解，即图形转移，大伙熟知的活字印刷术便是压印技术的原型，而NIL则是微缩版本的图形转移，尺寸只有几nm到几百nm。

看上去文字多，通俗的理解就是“盖章”，先制造出模板，然后用盖章一样的手法制作芯片，并且用同一个模板盖印多个相同的芯片。

佳能官网的NIL技术图示

而佳能走该技术的前沿，原因就是从前的傲慢与短时，忽略了光学光刻的前景，导致了现在实在追赶不上EUV的局面，便开始倾注大量的精力和资本在NIL上。

如果NIL可以继续成熟并得以广泛应用，会撼动目前ASML在芯片制造领域的地位，极有可能获得大多数厂商的优先选择权。

能不能得到广泛应用，是重点。